すべての装置に高出力・高密度グリッド形状の熱陰極合成石英ランプを採用し、ラボでの使いやすさを追求したコンパクトなモデル。
オゾン排気、ランプ冷却用のファン・ブロワや安全対策のインターロックを標準装備し、装置が届いたその日からご利用できます。
また豊富なラインナップ、オプションをそろえ、将来を見据えた量産装置に導入可能なランプを採用しています。
有効照射面積100mm角以下の装置、消耗品（ランプ等）も即納または短納期を実現しました。
多くの導入実績を誇り、今後も性能・品質向上、使いやすさを追求していきます。それぞれの装置を事前に使用感や性能を確認できるラボも設置しております。ぜひお気軽にご来社ください。
当社製R&D用小型装置の特徴
高出力・高密度グリッド形状ランプの採用。
合成石英、熱陰極を採用。将来の量産の条件出しにも最適です。
安全対策インターロックを標準装備
扉を開けたら、UVランプは自動消灯。全機種標準装備。
排オゾン、ランプ冷却用のファン・ブロワを標準装備
別途お求めになる必要はありません。
ランプ距離の調整が可能
条件出しに色々な照射距離をお試しできます。
応用例
プラズマ照射装置とは異なり、電界による素子へのダメージ（電子またはイオン衝撃）がなく、フォトレジストのアッシング、シリコンウエハのクリーニングなど有機物除去や、樹脂やガラスの表面改質による密着性の向上など、様々用途に用いられています。
- 液晶ディスプレイ向けガラス、カラーフィルターの有機系皮膜の除去
- ITOフィルムのガラスとの密着性向上、絶縁膜との密着強度向上
- リードフレーム、ICチップなどの有機系皮膜の除去、親水化
- 圧電ブザー、セラミックLSIの蒸着前処理、部品密着性向上
- コネクター、スイッチ、携帯電話外装の密着性向上
- シリコン、化合物半導体、水晶、ITO膜、レンズなどの洗浄
R&D用小型装置ラインナップ
ASM401oz
有効照射エリア 50mm×50mm
ベストセラーモデルASM401Nとオゾン分解装置を一体化したよりコンパクトなモデル。スライドガラスなど小型の試料でご利用ください。
※ ASM401Nの外形とは、背面部の一部が異なるのみです。
