UV洗浄表面改質データ　金属等

• ITO基板
• SiCウエハ
• SUS347

• インコネル600
• チタン
• 銅

• ネオジム磁石
• アルミニウム
• ソーダ石灰硝子

ITO基板（ Indium Tin Oxide：酸化インジウムスズ）

着液2秒後の接触角測定データ　ITO基板

測定 ポイント	1	2	3	4	5	6	7	8	9	平均	標準偏差
洗浄前	82.87	83.95	89.22	84.31	84.15	88.92	89.41	86.47	84.10	85.93	2.61
洗浄後	15.92	18.76	20.23	18.21	18.32	18.43	17.41	19.28	17.95	18.28	1.20

照射距離及び照射時間推移データ

照射時間 [sec]	0	30	60	90	120	150	180	240	300
照射距離 10mm	87.13	64.38	23.64	19.79	18.27	16.73	16.27	16.53	14.28
照射距離 30mm	87.13	63.33	51.00	16.57	15.84	20.27	17.00	14.80	20.98
照射距離 50mm	87.13	72.36	61.09	27.96	29.51	30.00	19.91	17.78	15.11

SiCウエハ

着液2秒後のデータ C面

測定ポイント	1	2	3	4	5	平均	標準偏差
洗浄前	65.13	64.81	62.35	67.38	63.63	64.66	1.87
洗浄後	4.70	4.61	4.97	5.44	4.95	4.93	0.32

着液2秒後のデータ　Si面

測定ポイント	1	2	3	4	5	平均	標準偏差
洗浄前	33.72	36.74	35.82	37.33	36.18	35.96	1.38
洗浄後	4.50	4.58	4.40	4.53	5.37	4.68	0.39

SUS347

UV洗浄装置	：ASM1101N
UV照射条件	：照射距離：10mm
	：照射時間：300秒
接触角計	：B100
条件	：着液量：1μL 、着液2秒後計測値

インコネル600

UV洗浄装置	：ASM1101N
UV照射条件	：照射距離：10mm
	：照射時間：300秒
接触角計	：B100
条件	：着液量：1μL 、着液2秒後計測値

チタン（99.5%）

UV洗浄装置	：ASM1101N
UV照射条件	：照射距離：10mm
	：照射時間：300秒
接触角計	：B100
条件	：着液量：1μL 、着液2秒後計測値

銅

接触角と表面自由エネルギーの変化

処理時間 [秒]	0	30	60	120	180	300
接触角（純水）[°]	106.30	92.65	71.55	58.48	49.64	35.19
分散力 [mJ/m2]	27.67	33.89	35.69	32.87	33.70	30.83
水素結合力 [mJ/m2]	0.05	1.11	7.86	16.11	21.18	31.72
表面自由エネルギー [mJ/m2]	27.72	35.00	43.55	48.98	54.88	62.55

ネオジム磁石

時間 [sec]	0	30	60	90	120	300	480	600
接触角（°）	98.78	85.08	78.34	75.09	68.35	42.99	42.06	37.35

アルミニウム　A5052 表面白アルマイト処理

時間 [sec]	0	30	60	90	120	300	480
接触角（°）	76.20	66.70	53.40	56.37	43.58	24.34	17.44

ソーダ石灰ガラス

時間 [sec]	0	30	60	90	120	180	300	480
接触角（°）	43.42	39.65	45.01	42.04	23.17	22.38	15.72	4.17