エキシマランプには、希ガスを封入したランプ内で発生する放電プラズマにより発生する光（エキシマ光）を利用したものです。
主な波長としては126nm（Ar2*）、146nm（Kr2*）、172nm（Xe2*）、222nm（KrCl*）、308nm（XeCl*）があります。
当社では、Xe2を利用した172nmを主波長とした浜松ホトニクス株式会社製のランプユニットを採用し、表面改質、親水化処理処理（濡れ性向上）用途の装置をご提供しています。
エキシマランプの特徴
- 平面型ランプの採用で、大面積での均一な照射が可能
- RF（Radio Frequency：高周波）の採用により、ちらつきの少ない安定した出力
- 172nmの単一波長で、効率のよりエキシマ照射処理が可能
- 瞬時点灯、消灯が可能
エキシマ照射処理の特徴
- 放電を直接ワークに当てるコロナ放電、プラズマ方式と異なり、エキシマ照射は真空紫外線の照射のみの為、ワークへのダメージがほとんどありません。
- 電極のスパッタによる粉塵の発生があるコロナ放電、プラズマ方式と異なりクリーンな処理が可能。
- エキシマ照射は平面型ランプの光を利用する為、処理ムラが無し。
波長172nm エキシマ光の持つエネルギー
光は、その波長が短ければ短いほど、高いエネルギーを持っています。キセノン（Xe）を用いたエキシマランプは主波長が172nmであり、698kJ/mol（7.23eV）の非常に高いエネルギーを持ちます。この高いエネルギーを利用して、低圧水銀ランプなどでは表面改質しにくいテフロンなどに用いられます。
R&D用スキャン式エキシマ照射装置
172nmを主波長としたエキシマ照射ユニットとスキャン用ステージ、オゾン分解装置を一体化し、100Vの電源のみで簡単にかつ安全にエキシマ表面改質の実験が出来る装置です。
スキャン用ステージにより従来より大面積の処理が可能。オゾン分解装置一体型で、排気設備などが不要
エキシマ照射装置 カスタマイズ事例
照射幅400mmのエキシマ照射ユニット用向けスキャン式照射装置です。
最大ワークサイズは400×800mm。
エキシマ照射装置による改質事例
172nmのエキシマ光の持つ高エネルギーでの改質事例
