ITO基板( Indium Tin Oxide:酸化インジウムスズ)


UV洗浄装置 :ASM1101N
照射時間 :300秒
照射距離 :30mm
接触角計 :B100
着液量 :1.0μL
測定タイミング :着液後5秒
UV照射による変化_ITO(酸化インジウムスズ)

照射時間 [sec] 0 30 60 90 120 300
接触角 [° ] 92.08 72.43 70.68 59.62 45.42 18.96

UV照射時、ITO基板表面変化


SiCウエハ

サイズ :Φ104mm
測定ポイント :5ポイント(図2参照)
UV洗浄装置 :ASM1101N
照射時間 :300秒
接触角計 :B100
着液量 :0.5μL
SiCウエハ UV表面改質位置データ
図2 測定ポイント

着液2秒後のデータ C面

測定ポイント 1 2 3 4 5 平均 標準偏差
洗浄前 65.13 64.81 62.35 67.38 63.63 64.66 1.87
洗浄後 4.70 4.61 4.97 5.44 4.95 4.93 0.32

着液2秒後のデータ  C面 SiC

SiCウエハ改質データ C面


着液2秒後のデータ Si面

測定ポイント 1 2 3 4 5 平均 標準偏差
洗浄前 33.72 36.74 35.82 37.33 36.18 35.96 1.38
洗浄後 4.50 4.58 4.40 4.53 5.37 4.68 0.39

照射距離及び照射時間推移データ Si面

照射距離及び照射時間推移 接触角画像


SUS304

UV洗浄装置 :ASM1101N
照射時間 :300秒
照射距離 :30mm
接触角計 :B100
着液量 :1.0μL
測定タイミング :着液後5秒
UV照射による変化_SUS304

照射時間 [sec] 0 30 60 90 120 300
接触角 [° ] 70.67 59.60 54.91 36.49 29.23 23.14

UV照射時、SUS304基板表面変化


SUS347

UV洗浄装置 :ASM1101N
照射時間 :300秒
照射距離 :30mm
接触角計 :B100
着液量 :1.0μL
測定タイミング :着液後5秒
UV照射による変化_SUS347

照射時間 [sec] 0 30 60 90 120 300
接触角 [° ] 82.72 79.07 63.60 64.27 46.10 21.67

UV照射時、SUS347基板表面変化


インコネル600

UV洗浄装置 :ASM1101N
照射時間 :300秒
照射距離 :30mm
接触角計 :B100
着液量 :1.0μL
測定タイミング :着液後5秒
UV照射による変化_インコネル600

照射時間 [sec] 0 30 60 90 120 300
接触角 [° ] 81.62 68.84 64.92 60.43 34.79 30.24

UV照射時、インコネル600基板表面変化


チタン(99.5%)

UV洗浄装置 :ASM1101N
照射時間 :300秒
照射距離 :30mm
接触角計 :B100
着液量 :1.0μL
測定タイミング :着液後5秒
UV照射による変化_チタン

照射時間 [sec] 0 30 60 90 120 300
接触角 [° ] 51.98 47.03 47.90 41.35 32.83 27.94

UV照射時、チタン基板表面変化


銅(Cu)

UV洗浄装置 :ASM1101N
照射時間 :300秒
照射距離 :30mm
接触角計 :B100
着液量 :1.0μL
測定タイミング :着液後5秒
UV照射による変化_銅

照射時間 [sec] 0 30 60 90 120 300
接触角 [° ] 106.30 92.65 71.55 58.48 49.64 35.19

UV照射時、銅基板表面変化


ニッケル

UV洗浄装置 :ASM1101N
照射時間 :300秒
照射距離 :30mm
接触角計 :B100
着液量 :1.0μL
測定タイミング :着液後5秒
UV照射による変化_ニッケル

照射時間 [sec] 0 30 60 90 120 300
接触角 [° ] 93.77 76.68 75.79 67.92 53.91 41.41

UV照射時、ニッケル基板表面変化

ネオジム磁石 型式:HXN5-1

UV洗浄装置 :ASM1101N
照射時間 :300秒
照射距離 :30mm
接触角計 :B100
着液量 :0.5μL
測定タイミング :着液後5秒
UV照射による変化_ネオジム磁石

照射時間 [sec] 0 30 60 90 120 300
接触角 [° ] 98.78 85.08 78.34 75.09 68.35 42.99

UV照射時、ネオジム磁石基板表面変化


アルミニウム A5052 表面白アルマイト処理

UV洗浄装置 :ASM1101N
照射時間 :300秒
照射距離 :30mm
接触角計 :B100
着液量 :1.0μL
測定タイミング :着液後5秒
UV照射による変化_アルミニウム

照射時間 [sec] 0 30 60 90 120 300
接触角 [° ] 76.20 66.70 53.40 56.37 43.58 24.34

UV照射時、アルミ基板表面変化



ソーダ石灰ガラス 松浪硝子工業製 型式:S1226

UV洗浄装置 :ASM1101N
照射時間 :300秒
照射距離 :30mm
接触角計 :B100
着液量 :1.0μL
測定タイミング :着液後5秒
UV照射による変化_ソーダ石灰ガラス

照射時間 [sec] 0 30 60 90 120 300
接触角 [° ] 43.42 39.65 45.01 42.04 23.17 15.72

UV照射時、ソーダ石灰ガラス基板表面変化


※ その他の材質につきましてデータ取得を希望される場合は、お気軽にお問い合わせください。


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